今井 康彦(Imai Yasuhiko)

プロフィール
回折・散乱 Ⅱ グループ 低次元・非周期構造チーム

主幹研究員(低次元・非周期構造チームリーダー)

メール: imai@spring8.or.jp


 サブミクロンに集光した放射光X線を利用して、半導体デバイスなどの局所構造を調べることの出来る、高分解能マイクロ回折装置の高度化と、この装置を使った実験の支援をBL13XUにおいて行っています。主な高度化研究には、屈折レンズによる高エネルギーX線(30 keV)マイクロビームの実用化(科研費 挑戦的萌芽研究(平成24~26年度)研究分担者)や、ナノスケールX線回折マッピング法の開発(科研費 基盤研究(C)(平成26〜28年度)研究体表者)、精密試料アラインメントによるX線ナノビーム回折マルチスケールマッピング法の開発(JASRI GIGNOプロジェクト研究課題(平成27年1月〜平成28年3月)研究代表者)があります。また、深さ分解X線マイクロ回折や、3次元逆格子マップ測定、不揮発性メモリのスイッチ過程における構造変化の時間分解測定、などにも興味をもっています。


併任先

  • 検出器利用支援ワーキンググループ
  • JASRI 利用技術カンファレンス委員会委員
  • 未踏研究領域開拓グループ 次世代光源の利用に関するワーキンググループ

キーワード

  • マイクロ回折
  • ナノビーム回折
  • 検出器
研究成果

研究論文

  • "Characterization of Domain Structure in One-Dimensional SrRuO3 Nanostructure using Synchrotron X-Ray Microdiffraction", Y. Imai, S. Kimura, D. Kan, Y. Shimakawa, AIP Conf. Proc., submitted.
  • "Negligible substrate clamping effect on piezoelectric response in (111)-epitaxial tetragonal Pb(Zr, Ti)O3 films", T. Yamada, J. Yasumoto, D. Ito, O. Sakata, Y. Imai, T. Kiguchi, T. Shiraishi, T. Shimizu, H. Funakubo, M. Yoshino, and T. Nagasaki, J. Appl. Phys. 118, 072012 (2015).
  • "Characterization of locally strained Ge1xSnx /Ge fine structures by synchrotron X- ray microdiffraction", S. Ike, O. Nakatsuka, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, and S. Zaima, Appl. Phys. Lett. 106, 182104 (2015).
  • "Crystalline property analysis of semipolar (20–21) GaN on (22–43) patterned sapphire substrate by X-ray microdiffraction and transmission electron microscopy", T. Arauchi, S. Takeuchi, Y. Hashimoto, Y. Nakamura, K. Yamane, N. Okada, Y. Imai, S. Kimura, K. Tadatomo, A. Sakai, Physica Stat. Sol (b) 252, 1149-1154 (2015).
  • "57Fe polarization-dependent synchrotron Mössbauer spectroscopy using a diamond phase plate and an iron borate nuclear Bragg monochromator", T. Mitsui, Y. Imai, R. Masuda, M. Seto and K. Mibu, J. Synchrotron Rad. 22, 427-435 (2015).
  • "Controlling charge-density-wave states in nano-thick crystals of 1T-TaS2", M. Yoshida, Y. Zhang, J. Ye, R. Suzuki, Y. Imai, S. Kimura, A. Fujiwara, Y. Iwasa, Scientific Reports 4, 7302(5-pages), (2014).
  • "Deteriorated Device Characteristics in 3D-LSI Caused by Distorted Silicon Lattice", M. Mariappan, Y. Imai, S. Kimura, T. Fukushima, Bea Ji-Choel, H. Kino, Lee Kang-Wook, T. Tanaka, M. Koyanagi, IEEE Trans. Electron Devices 61, 540 (2014).
  • "High-resolution X-ray microdiffraction from a locally strained SOI with a width of 150 nm", Y. Imai, S. Kimura, D. Kosemura, A.Ogura, J. Phys.: Conf. Ser. 502, 012026(4), (2014).
  • "Formation and characterization of locally strained Ge1-xSnx/Ge microstructures", S. Ike, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, S. Zaima, Thin Solid Films 557, 164-168, (2014).
  • "Cross-sectional X-ray microdiffraction study of a thick AlN film grown on a trench-patterned AlN/α-Al2O3 template", D. T. Khan, S. Takeuchi, J. Kikkawa, Y. Nakamura, H. Miyake, K. Hiramatsu, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, A. Sakai, J. Cryst. Growth 381, 37-42, (2013).
  • "Microarea Strain Analysis in InGaN/GaN Multiple Quantum Wells on m-Plane Using High-Resolution Microbeam X-ray Diffraction", S. Yoshida, T.Yokogawa, Y. Imai, and S. Kimura, Jpn. J. Appl. Phys. 52, 071001(4), (2013).
  • "X-Ray N-Beam Takagi-Taupin Dynamical Theory and N-Beam Pinhole Topographs Experimentally Obtained and Computer-Simulated", K. Okitsu, Y. Imai, Y. Yoda, “Recent Advances in Crystallography”, Edited by Jason B. Benedict, ISBN 978-953-51-0754-5, Published: September 19, 2012 under CC BY 3.0 license, in subject Physical Sciences, Engineering and Technology, 67-86, (2012).
  • "Upgrade of the nuclear resonant scattering beamline, BL09XU in SPring-8", Y. Yoda, Y. Imai, H. Kobayashi, S. Goto, K. Takeshita, M. Seto, Hyperfine Interactions 206, 379-386, (2012).
  • "X-ray microdiffraction investigation of crystallinity and strain relaxation in Ge thin lines selectively grown on Si(001) substrates", K. Ebihara, J. Kikkawa, Y. Nakamura, A. Sakai, G. Wang, M. Caymax, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, Solid-State Electronics 60, 26-30, (2011).
  • "Structural change during the formation of directly bonded silicon substrates", T. Kato, T. Ueda, Y. Ohara, J. Kikkawa, Y. Nakamura, A. Sakai, O. Nakatsuka, S. Zaima, E. Toyoda, K. Izunome, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, Key Eng. Mater. 470, 158-163, (2011).
  • "Evidence of lattice tilt and slip in m-plane InGaN/GaN heterostructure", S. Yoshida, T. Yokogawa, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, Appl. Phys. Lett. 99, 131909 (3 pages), (2011).
  • "Characterization of strain relaxation process during Ge condensation by synchrotron microbeam X-ray diffraction", T. Shimura, T. Inoue, D. Shimokawa, T. Hosoi, Y. Imai, O. Sakata, S. Kimura, H. Watanabe, Jpn. J. Appl. Phys. 50, 010112 (6 pages), (2011).
  • "Nanometer-scale characterization technique for Si nanoelectric materials using synchrotron radiation microdiffraction", S. Kimura, Y. Imai, O. Sakata, A. Sakai, Key Eng. Mater. 470, 104-109, (2011).
  • "Polarization-dependent X-ray six-beam pinhole topographs for a channel-cut silicon crystal", K. Okitsu, Y. Yoda, Y. Imai and Y. Ueji, Acta Cryst. A67, 550-556, (2011).
  • "High-angular-resolution microbeam X-ray diffraction with CCD detector", Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, A. Sakai, AIP Conference Proceedings CP1221, 30-32, (2010).
  • "X-ray microdiffraction study on crystallinity of micron-sized Ge films selectively grown on Si(001) substrates", K. Ebihara, S. Harada, J. Kikkawa, Y. Nakamura, A. Sakai, G. Wang, M. Caymax, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, ECS Transaction 33, 887-892, (2010).
  • "Structural change of direct silicon bonding substrates by interfacial oxide out-diffusion annealing", T. Kato, Y. Nakamura, J. Kikkawa, A. Sakai, E. Toyoda, K. Izunome, O. Nakatsuka, S. Zaima, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, Thin Solid Films 518, S147-S150, (2010).
  • "In Situ and Real-Time Monitoring of Oxide Growth in a Few Monolayers at Surfaces of Platinum Nanoparticles in Aqueous Media", H. Imai, K. Izumi, M. Matsumoto, Y. Kubo, K. Kato and Y. Imai, J. Am. Chem. Soc. 131(17), 6293–6300, (2009).
  • "X-ray Optics with Small Vertical Divergence and Horizontal Focusing For an X-ray Standing-wave Measurement", O. Sakata, T. Kudo, H. Yamanaka, and Y. Imai, Transactions of the Materials Research 34(4), 601-604, (2009).

国際会議発表

  • ポスター発表・国際会議International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (SRI2015)・2014年7月6〜10日・ニューヨーク(アメリカ) タイトル: Characterization of Domain Structure in One-Dimensional SrRuO3 Nanostructure using Synchrotron X-Ray Microdiffraction
  • 招待講演・国際ワークショップ Sapphire Ultra Optics for Synchrotron Radiation・2014年5月28〜30日・モスクワ(ロシア) タイトル: High-energy-resolution monochromators at SPring-8
  • ポスター発表・国際会議Lights and particle beam for materials science (LPBMS2013)・2013年8月28〜31日・つくば タイトル: High-resolution X-ray microdiffraction from a locally strained SOI with a width of 150 nm
  • 口頭発表・国際会議The 11th Biennial Conference on High Resolution X-Ray Diffraction and Imaging (XTOP 2012)・2012年9月15〜20日・サンクトペテルブルグ(ロシア) タイトル: Microdiffraction from 50-nm-region in a strained silicon
  • ポスター発表・国際会議The 10th Biennial Conference on High Resolution X-Ray Diffraction and Imaging (XTOP 2010)・2010年9月20〜23日・ウォーウィック(イギリス) タイトル: Strain distribution measurement of a locally strained Si using X-ray microdiffraction technique
  • 口頭発表・国際会議International symposium on technology evolution for silicon nano electronics・2010年6月3〜5日・東京工業大学 タイトル: Nanometer-scale Characterization Technique for Si Nanoelectric Materials using Synchrotron Radiation Microdiffraction
  • ポスター発表・国際会議International congress on X-ray optics and microscopy (ICXOM20)・2009年9月16〜19日・カールスルーエ(ドイツ) タイトル: High-angular-resolution microbeam X-ray diffraction with CCD detector

国内学会発表

  • ポスター発表・放射光学会年会・2014年1月11〜13日・広島国際会議場 タイトル:マイクロX線回折におるローカル歪みSOIの評価
  • ポスター発表・放射光学会年会・2013年1月12〜14日・名古屋大学 タイトル:高角度分解能マイクロX線回折装置の現状
  • 口頭発表・放射光学会年会・2012年1月6〜9日・鳥栖市民文化会館 タイトル:マイクロX線回折におるローカル歪みSiの歪み分布測定
  • ポスター発表・放射光学会年会・2011年1月7〜10日・つくば国際会議場 タイトル:高角度分解能マイクロX線回折装置の現状
  • ポスター発表・放射光学会年会・2010年1月6〜9日・イーグレひめじ タイトル:CCD型検出器を用いた高角度分解能マイクロX線回折計
  • ポスター発表・放射光学会年会・2009年1月9〜12日・東京大学本郷キャンパス タイトル:高分解能マイクロX線回折装置の現状と応用研究

競争的資金

  • JASRI GIGNOプロジェクト研究課題(平成27年1月〜28年3月)「精密試料アラインメントによるX線ナノビーム回折マルチスケールマッピング法の開発」研究代表者
  • 科学研究費助成事業 基盤研究(C)(平成26〜28年度)「ナノスケールX線回折マッピング法の開発」(No. 26420292) 研究代表者
  • 科学研究費助成事業 挑戦的萌芽研究(平成25~平成26年度)「石英製屈折レンズを用いる放射光マイクロ回折によるInGaN層のピンポイント評価」(No. 25600151) 代表:木村 滋 研究分担者
  • 特定領域研究「シリコンナノエレクトロニクスの新展開―ポストスケーリングテクノロジー―」(平成18〜21年度)代表:財満 鎭明 研究分担者(平成20年6月〜平成21年3月)
  • 戦略的創造研究推進事業 CREST 研究領域「物質現象の解明と応用に資する新しい 計測・分析基盤技術」 「物質科学のための放射光核共鳴散乱法 の研究」(平成17年10月平成21年3月)代表:瀬戸 誠 研究分担者(平成17 年10月〜平成20年3月)

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